循环加载下不同洞缘设计对Ⅰ类洞充填界面微渗漏的多维度解析

一、引言

1.1研究背景与意义

在口腔疾病中，龋齿是一种极为常见的病症，严重影响着人们的口腔健康和生活质量。据世界卫生组织（WHO）统计，全球约有数十亿人受到龋齿的困扰，在一些发展中国家，儿童的龋齿患病率甚至高达80%以上。Ⅰ类洞作为龋齿的常见类型，是指所有牙面发育点隙裂沟的龋损所备成的窝洞。目前，Ⅰ类洞充填治疗是临床中应对龋齿的主要手段之一，通过使用各种充填材料对龋洞进行填充，以恢复牙齿的外形和功能。然而，在实际治疗过程中，充填治疗的效果往往受到多种因素的制约，其中充填界面微渗漏问题尤为突出。

微渗漏是指充填材料与牙体