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文件名称:半导体器件复习.ppt
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总页数:8 页
更新时间:2025-10-23
总字数:约小于1千字
文档摘要
结;8.结大注入效应,大注入和小注入时的电流电压特性的比较。(扩散系数增大一倍)
9.比较结自建电场,缓变基区自建电场和大注入自建电场的异同点。
10.势垒电容与扩散电容的产生机制。
11.三种结击穿机构。雪崩击穿的条件?讨论影响雪崩击穿电压的因素。
12.结的交流等效电路?
13.结的开关特性,贮存时间的影响因素。
14.肖特基势垒二极管与结二极管的异同。;双极晶体管;6.晶体管共基极和共射极电流放大系数之间的关系。
7.晶体管共基极和共射极输入、输出特性和转移特性曲线
8.大电流效应及对器件特性的影响
大注入效应?效应(基区电导调制效应)和(韦伯斯脱)效应(大注入内建电场效应)。
基区扩展效应(效应)。
发射极电流集边效应。;9.什么是效应对器件特性有什么影响?
10.基区穿通和外延层穿通。
11.三种击穿电压的关系。
12.写出载流子从发射极到集电极的总传输延迟时间的表达式,并说明各传输延迟时间的意义,如何提高晶体管的特征频率?
13.f?,f?,的定义,及相互间的大小关系?
晶体管在开关过程中,结和结偏压是如何变化的。
的优势
;场效应晶体管;7.小信号等效电路。管截止频率表达式,提高频率性能的途径。
8.器件等比例缩小原则。
9.结构的C-V特性(理想、实际)。
10.热载流子效应和闩锁效应。
11.现代器件的发展趋势。;谢谢大家!