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文件名称:AlGaN_GaN异质结场效应晶体管载流子迁移率与器件特性参数的关联性探究.docx
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更新时间:2025-10-23
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文档摘要

AlGaN/GaN异质结场效应晶体管载流子迁移率与器件特性参数的关联性探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代电子器件领域,随着通信、雷达、电力电子等技术的飞速发展,对高性能电子器件的需求日益增长。AlGaN/GaN异质结场效应晶体管(AlGaN/GaNHFETs)作为第三代半导体器件的杰出代表,凭借其独特的物理性质,在众多领域展现出巨大的应用潜力,成为了研究的焦点。

GaN材料具有宽禁带宽度(约3.4eV)、高临界击穿电场(约3.3×10^6V/cm)、高电子饱和漂移速度(约2.5×10^7cm/s)和高热导率(约1.3W/cm?K)等优异特性。这些特性使得基于