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文件名称:磁控溅射法制备TiAlN与TiAlSiN薄膜及其性能的对比探究.docx
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更新时间:2025-10-23
总字数:约2.13万字
文档摘要

磁控溅射法制备TiAlN与TiAlSiN薄膜及其性能的对比探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代工业领域,薄膜材料因其独特的物理、化学和力学性能,扮演着愈发关键的角色,已广泛应用于航空航天、机械制造、电子信息、汽车工业等众多领域。通过在基体表面涂覆薄膜,可以显著改善基体的表面性能,如提高硬度、耐磨性、耐腐蚀性、抗氧化性以及降低摩擦系数等,从而有效延长零部件的使用寿命,提升产品的质量和性能。

TiAlN薄膜作为一种新型的多元硬质薄膜涂层材料,是在传统TiN薄膜的基础上发展而来。与TiN薄膜相比,TiAlN薄膜具有更高的硬度、更低的摩擦因数、良好的高温稳定性和耐腐蚀性等优异性能