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文件名称:非晶ZnTiSnO薄膜的制备工艺与薄膜晶体管性能关联性研究.docx
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总页数:21 页
更新时间:2025-10-25
总字数:约2.67万字
文档摘要
非晶ZnTiSnO薄膜的制备工艺与薄膜晶体管性能关联性研究
一、引言
1.1研究背景
在现代电子技术飞速发展的进程中,薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)作为构建各类电子器件的关键基础元件,其性能优劣对整个电子系统的表现起着决定性作用。薄膜晶体管是一种以沉积形成的半导体、金属和绝缘体薄膜组成的场效应器件,凭借其能够实现对电流的精确控制、具备良好的稳定性和可靠性,以及可在大面积基板上制备等优势,被广泛应用于显示领域中的液晶显示器、有机发光二极管等,传感领域中的生物传感器、气敏传感器等,以及探测领域中的量子点薄膜晶体管探测器等。
随着科技的进步,人们对电子器件的性能提