2.5发展中的聚焦离子束系统

5.1新型FIB离子源技术离子源种类多样化主要朝高生产率、高分辨率、低损伤等方面发展：

5.1新型FIB离子源技术离子源种类多样化氙（Xe）等离子源氙（Xe）是商用等离子FIB（PFIB）仪器中最常用的物质，其质量大，材料去除率比传统的Ga+FIB高（20倍）。XePFIB工具已广泛应用于微电子失效分析，用于制备穿过封装和生产线后端组件的横截面。电感耦合等离子体（ICP）和电子-回旋共振（ECR）是最普遍的XePFIB源。这两种源都是通过电离气体来产生等离子体，并从中提取离子束。

气体场离子源(GFIS)

在较轻的物质中，氦（He）和氖（Ne）可