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文件名称:磁控溅射制备超薄TiN薄膜电极:工艺、性能与应用探索.docx
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更新时间:2025-11-10
总字数:约2.61万字
文档摘要

磁控溅射制备超薄TiN薄膜电极:工艺、性能与应用探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学与工程领域,薄膜材料因其独特的物理、化学性质,在众多现代技术应用中扮演着关键角色。氮化钛(TiN)薄膜作为一种典型的过渡金属氮化物薄膜,凭借其一系列优异特性,受到了广泛关注。

TiN薄膜具有高硬度,其维氏硬度可达2000-2500HV,这使得它在刀具、模具等领域成为理想的耐磨涂层材料,能够显著提高工具的使用寿命和切削性能。在机械加工过程中,刀具表面涂覆TiN薄膜后,可有效减轻切削刃边材料的附着,提高切削力,同时改善工件的表面质量。其良好的化学稳定性和耐腐蚀性,使其能在各种恶劣化学