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文件名称:几种CVD制备金刚石薄膜的方法.docx
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更新时间:2025-11-10
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文档摘要
几种CVD制备金刚石薄膜的方法
几种CVD制备金刚石薄膜的方法1.热丝CVD法
此法又称为热解CVD法,Matsumoto等人承受热丝CVD法成功地生长出了金刚石薄膜。该法是把基片(Si、Mo、石英玻璃片等)放在石英玻璃管做成的反响室内,把石英管内抽成真空后,把CH4和H2的混合气体输人到装在管中的钨丝四周(两种气体的流量比为0.5%-5%)。用直流稳压电源加热钨丝到约2025℃,反响室内温度为700~
900℃,基片温度为900℃左右,室内气体压力为1×103-1×105Pa。在这样的反响条件下,CH4和H2混合气中的H2被热解,产生原子态