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文档摘要

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第二十一章

微流控分析芯片;21.1.1概述;微流控分析芯片:;发展过程：;争论与发展：;争论与发展：;争论与发展：;21.1.2微流控分析芯片的特点与前景;影响分析性能的主要因素与效应：;分类：;表21-1微流控(分析)芯片与微阵列(生物)芯片的对比;存在的问题：;微流控芯片研究：;微流控芯片应用研究：;内容选择：;第二十一章

微流控分析芯片;21.2.1芯片材料与设计加工;二、膜制备技术;３.蒸发

真空加热（金、硅等或三氧化二铝、二氧化硅等）→气化（原子或分子）→沉积（基片表面成膜）

４.溅射：多晶硅、二氧化硅和氮化硅膜。