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文件名称:6H-SiC单晶激光辐照效应及性能改性的深度剖析与前沿探索.docx
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总页数:24 页
更新时间:2025-11-11
总字数:约2万字
文档摘要

6H-SiC单晶激光辐照效应及性能改性的深度剖析与前沿探索

一、引言

1.1研究背景与意义

随着现代科技的飞速发展,半导体材料在各个领域的应用日益广泛。6H-SiC单晶作为第三代半导体材料的典型代表,凭借其独特的物理性质,如宽带隙(约3.0eV)、高击穿电场强度、高热导率(约4.9W/cm?K)、高速的电子饱和漂移速度以及良好的化学稳定性和抗辐射性能等,在光电子学、高温电子学、抗辐射电子学和高频大功率器件等领域展现出巨大的应用潜力。在光电子领域,可用于制造紫外探测器、发光二极管等器件,满足对高性能光电器件的需求;在高温电子领域,能够承受高温环境,为高温传感器、发动机电子控制系统等提供