基本信息
文件名称:2025半导体制造工艺微缩化技术模拟考试试题及解析.pdf
文件大小:194.57 KB
总页数:43 页
更新时间:2025-11-12
总字数:约1.35万字
文档摘要

2025半导体制造工艺微缩化技术模拟考试试题及解析

一、单选题(单选题共20题,每小题列出的四个备选

项中选项中只有一个是符合题目要求的,多选、错选、不

选均不得分。,共1题)

1.在半导体制造工艺微缩化过程中,以下哪种技术对减

小晶体管尺寸起到了关键作用?

【选项】

A.光刻技术

B.涂覆技术

C.化学蚀刻

D.蒸发技术

【参考答案】A

【解析】光刻技术是半导体制造中用于定义电路

pattern的核心工艺,通过对光刻胶的曝