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文件名称:含硅成分对二维射流阵列放电特性及憎水性改性的影响研究.docx
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更新时间:2025-11-12
总字数:约2.42万字
文档摘要
含硅成分对二维射流阵列放电特性及憎水性改性的影响研究
一、引言
1.1研究背景与意义
在材料科学与工程领域,材料表面的性能对于其整体应用起着至关重要的作用。表面处理技术作为改善材料表面性能的关键手段,一直是研究的热点。其中,等离子体射流技术以其独特的优势,如能够在常压下产生、操作简便、处理效率高以及对环境友好等,在材料表面改性、涂层制备等方面展现出了巨大的潜力。
在电力系统中,绝缘材料的性能直接关系到电力设备的安全稳定运行。随着电力工业的快速发展,对绝缘材料的性能要求也越来越高。憎水性作为绝缘材料的重要性能之一,能够有效提高其在潮湿环境下的绝缘性能,防止闪络事故的发生。传统的绝缘材料如陶瓷、