脉冲激光沉积制备氧化锡锑透明导电薄膜及其性能的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今数字化时代，电子信息技术的迅猛发展深刻改变了人们的生活和工作方式。从智能手机、平板电脑到可穿戴设备，从高清显示器、太阳能电池到传感器，各类电子器件在人们的生活中无处不在，并且对其性能的要求也越来越高。高性能导电材料作为电子器件的关键组成部分，对于实现电子器件的高效运行、小型化和多功能化起着至关重要的作用，其性能的优劣直接影响着电子器件的性能和应用范围。

氧化锡锑（ATO）透明导电薄膜，作为一种新型的功能材料，因其同时具备优良的透明度和导电性能而受到了广泛关注。在可见光范围内，ATO薄膜具有较高的透