2025年大学《应用物理学》专业题库——高分辨率光刻技术在微电子制造中的应用

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一、

高分辨率光刻技术是微电子制造中实现芯片特征尺寸持续缩小的关键技术。请简述衍射极限对光刻分辨率的理论限制，并说明阿贝成像理论的主要内容及其对分辨率提升的指导意义。

二、

对准和聚焦是光刻过程中的关键步骤。简述光学邻近效应（OPC）产生的原因，并解释光刻工艺中通常采用哪些方法来补偿或减小光学邻近效应。

三、

深紫外（DUV）光刻技术是目前主流的半导体制造光刻技术。请分别说明KrF准分子激光器和ArF准分子激光器的典型波长，并比较Ar