超大规划集成电路中MOSFET可靠性特性的深度剖析与优化策略

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代电子技术飞速发展的浪潮中，超大规划集成电路（ULSI）扮演着举足轻重的角色，其广泛应用于计算机、通信、消费电子、汽车电子以及航空航天等众多关键领域。ULSI技术的进步使得单片集成电路中晶体管数量呈指数级增长，目前已达数十亿级别，这一发展趋势在大幅提升芯片性能和功能集成度的同时，也给金属-氧化物-半导体场效应晶体管（MOSFET）带来了前所未有的挑战，其中可靠性问题尤为突出。

随着集成电路特征尺寸不断缩小，MOSFET在制造过程中面临着更为严苛的工艺要求。微小的制造缺陷、材料杂质以