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文件名称：钽电容内部结构.pdf
文件大小：98.43 KB
总页数：4 页
更新时间：2025-11-16
总字数：约3.62千字
文档摘要
钽电容内部结构
钽电容作为电子元件中的重要成员，其内部结构设计直接影响性能与可靠
性。核心部分由阳极、介质层、阴极及封装材料构成，每个环节的工艺处理均
体现精密制造技术。
阳极主体采用高纯度钽金属粉末压制，经过高温烧结形成多孔基体结构。
孔隙率与颗粒粒径的精确控制决定比表面积大小，烧结温度区间设定在1800℃
至2000℃之间，确保颗粒间冶金结合强度。多孔基体表面经电化学氧化生成五
氧化二钽介质层，该氧化物薄膜厚度与施加的化成电压呈线性关系，每增加1V
电压约生成1.7nm厚度的介电层。