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真空蒸发镀膜(简称真空蒸镀)是在真空室

中，加热蒸发器中待形成薄膜的原材料，使其原

子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到衬底或基片表面，凝固形成固态薄膜的方法。

又称为热蒸发法

几十年的历史;

主要内容

2-1真空蒸发原理

2-2蒸发源的蒸发特性及膜厚分布

2-3蒸发源的类型

2-4合金及化合物蒸发

2-5膜厚和淀积速率的测量与监控;

1.真空蒸发的特点与蒸发过程

特点：

设备比较简单、操作容易；

薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制；

成膜速度快、效率高，采用掩模可以获得清晰

的图形；

薄膜生长机理比较单纯。

缺点：不容易获得结晶结构的薄膜，薄膜附着力较小，工

艺重复性