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2025年半导体设备薄膜沉积技术报告范文参考

一、2025年半导体设备薄膜沉积技术报告

1.1技术背景

1.2技术发展趋势

1.2.1高沉积速率

1.2.2低缺陷率

1.2.3多功能薄膜

1.3技术应用领域

1.3.1集成电路制造

1.3.2光伏产业

1.3.3显示产业

1.3.4光通信

1.4技术挑战

1.5技术发展前景

二、薄膜沉积技术的关键工艺与设备

2.1关键工艺

2.1.1化学气相沉积（CVD）

2.1.2物理气相沉积（PVD）

2.1.3原子层沉积（ALD）

2.1.4分子束外延（M