基本信息
文件名称:基于垂直阵列CNTs的纳米吸气剂制备工艺深度剖析与优化策略.docx
文件大小:30.38 KB
总页数:25 页
更新时间:2025-11-23
总字数:约2.19万字
文档摘要
基于垂直阵列CNTs的纳米吸气剂制备工艺深度剖析与优化策略
一、引言
1.1研究背景与意义
随着科技的飞速发展,微机电系统(MEMS)技术在众多领域得到了广泛应用,如航空航天、生物医疗、通信等。MEMS器件的性能和可靠性很大程度上依赖于其工作环境的真空度。在高真空环境下,MEMS器件能够有效减少气体分子的散射和摩擦,降低能量损耗,提高器件的灵敏度、稳定性和寿命。例如,在MEMS陀螺仪中,高真空度可以减少气体阻尼,提高其测量精度和响应速度;在MEMS谐振式加速度计中,真空环境有助于提高谐振频率的稳定性,从而提升加速度测量的准确性。因此,实现和维持高真空度对于MEMS技术的发展至