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演讲人：XXX

光刻机科普介绍

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光刻机基础概念

01

核心定义与功能定位

精密图形转移设备

光刻机是通过光学投影原理将掩模版上的集成电路图形精确复制到硅片表面的核心设备，其定位精度可达纳米级。现代极紫外（EUV）光刻机可实现7nm以下制程的图案化。

工艺控制中枢

通过实时调焦调平系统补偿硅片形变，配合剂量控制模块确保曝光均匀性。最新机型配备AI驱动的实时过程监控系统，可动态修正200余项工艺参数。

多系统协同工作平台

集成光学系统、精密机械、运动控制、真空环境等子系统，需维持恒温恒湿环境。以ASMLTwinscanNXE系列为例，包含超过10万个零部件和3公