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文件名称:GaN基与ZnTe半导体材料:制备工艺、光学特性及应用前景的深度剖析.docx
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更新时间:2025-11-26
总字数:约2.19万字
文档摘要

GaN基与ZnTe半导体材料:制备工艺、光学特性及应用前景的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在半导体材料的大家族中,GaN基半导体材料和ZnTe半导体材料犹如两颗璀璨的明星,各自散发着独特的光芒,在现代科技发展的进程中占据着举足轻重的地位。

GaN基半导体材料作为第三代半导体材料的杰出代表,以其宽禁带(约3.4eV)、高击穿电场(约2×10?V/cm)、高电子饱和漂移速度(约2.7×10?cm/s)以及良好的热稳定性等一系列优异特性,成为了众多领域的研究热点和关键支撑。在光电子领域,基于GaN材料制作的蓝光发光二极管(LED)打破了传统照明光源的局限,开启了固