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文件名称:碳化硅与蓝宝石衬底上二氧化锡外延薄膜:制备工艺与特性的深度剖析.docx
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更新时间:2025-11-28
总字数:约2.53万字
文档摘要

碳化硅与蓝宝石衬底上二氧化锡外延薄膜:制备工艺与特性的深度剖析

一、绪论

1.1研究背景与意义

在半导体领域持续发展的进程中,二氧化锡(SnO_2)外延薄膜凭借其卓越的物理性质和广泛的应用潜力,已然成为研究的焦点。作为一种重要的宽禁带半导体材料,SnO_2具备高化学稳定性、优异的光电性能以及可调控的表面特性,这些优势使其在众多关键领域,如太阳能电池、触摸屏、液晶显示屏的透明导电薄膜以及气体传感检测等,发挥着不可或缺的作用。在钙钛矿太阳能电池中,SnO_2作为电子传输层,通过高效的电子传输、空穴阻挡和界面优化,显著提升了电池的效率和稳定性,成为推动太阳能利用技术发展的关键材料之一。在气体传感