基本信息
文件名称:2025年智能手机芯片制程工艺演进趋势研究报告.docx
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总页数:21 页
更新时间:2025-11-28
总字数:约1.33万字
文档摘要
2025年智能手机芯片制程工艺演进趋势研究报告模板范文
一、2025年智能手机芯片制程工艺演进趋势研究报告
1.1芯片制程工艺背景
1.2制程工艺发展趋势
1.2.1纳米级制程
1.2.2三维晶体管技术
1.2.3异构计算架构
1.2.4封装技术
1.2.5人工智能芯片
1.3技术挑战与机遇
二、智能手机芯片制程工艺关键技术创新
2.1纳米级制程技术突破
2.1.1FinFET晶体管技术
2.1.2多晶硅技术
2.1.3光刻技术
2.2三维晶体管技术进展
2.2.1FinFET三维晶体管
2.2.2Gate-All-Around晶体管
2.3异构计算架构应用
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