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文件名称:基于位相掩模的动态近场全息光刻法:软X射线变间距光栅制备技术探究.docx
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更新时间:2025-11-28
总字数:约1.9万字
文档摘要
基于位相掩模的动态近场全息光刻法:软X射线变间距光栅制备技术探究
一、引言
1.1研究背景与意义
软X射线变间距光栅作为软X射线平焦场光谱仪的核心元件,在同步辐射、强激光等前沿科研领域中发挥着关键作用。在同步辐射光源中,软X射线变间距光栅用于光束线中的光栅单色器,通过精确的分光作用,将同步辐射光单色化,满足不同实验对特定波长软X射线的需求,在原子分子物理、凝聚态物理、材料科学等众多学科研究中不可或缺。在惯性约束聚变实验里,它能够对激光等离子体辐射的各种光谱进行精确测量,为分析和描述激光等离子体的复杂行为提供关键数据支持。随着相关科学装置性能的不断提升,对高质量软X射线变