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文件名称:低维氧化钨纳米晶材料:制备工艺与气敏性能的深度剖析.docx
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更新时间:2025-11-28
总字数:约2.29万字
文档摘要
低维氧化钨纳米晶材料:制备工艺与气敏性能的深度剖析
一、引言
1.1研究背景与意义
随着现代社会的快速发展,人们对环境质量、工业生产安全以及生物医学检测等方面的要求日益提高,气敏传感器作为能够快速、准确检测气体种类和浓度的关键设备,在环境监测、工业过程控制、医疗诊断等众多领域发挥着不可或缺的作用。传统的气敏材料在灵敏度、响应速度和选择性等方面逐渐难以满足日益增长的需求,因此开发新型高性能气敏材料成为了研究的热点。
氧化钨(WO_3)作为一种重要的过渡金属氧化物半导体材料,具有独特的物理化学性质,如宽禁带(E_g\approx2.6-2.8eV)、高化学稳定性和良好的电学性能等。这些特性