CVD辅助固-固界面生长金属有机框架材料的制备与应用研究

一、引言

1.1研究背景与意义

化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition，CVD）技术作为材料合成领域的关键技术之一，在过去几十年中取得了长足的发展。该技术通过气态的原子或分子在固体表面发生化学反应并沉积，从而制备出具有特定结构和性能的材料薄膜或涂层。CVD技术具有诸多显著优势，如能够在复杂形状的基底上实现均匀沉积，可精确控制沉积层的化学成分和微观结构，能够制备出高纯度、高质量的材料等。这些优势使得CVD技术在半导体、光学、航空航天等众多领域得到了广泛应用，例如在半导体制造中用于制备集成电路的绝缘层