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真空镀膜及镀膜设备讲座

真空技术根底真空技术是制备薄膜的根底，真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等均要求沉积薄膜的空间要有一定的真空度，总的来说，真空在薄膜制备过程中主要有两方面作用：减少蒸发或溅射粒子跟气体剩余分子相碰撞；抑制它们之间的反响。因此获得并保持真空环境是镀膜的必要条件。

真空度量单位真空技术中，压强的单位通常是用帕斯卡〔Pa〕来表示，这是目前国际上推荐使用的国际单位制〔SI〕单位。托〔Torr〕这一单位在最初获得真空时就被采用，是真空技术中的独制单位。两者关系为1Torr=133.322Pa。另外真空历史上还采用过几种压强单位，虽然少见但我们在以后的学习和工作中有可能也会使用到