基本信息
文件名称：新柯隆型离子源原理与应用详解.pdf
文件大小：11.54 MB
总页数：37 页
更新时间：2025-12-01
总字数：约1.57万字
文档摘要
Ⅰ离子源的用途
①基板洗净（前处理）:提高表面粗糙度
②IAD（辅助离子蒸镀）:提高填充密度
A)光学特性
随着环境温湿度的变化，光学特性比不用离子源更稳定。
减少吸收和散乱，提升光学特性。
B)机械特性
薄膜的硬度增加。
薄膜的应力减少（或者是可以控制）。
基板、薄膜各个层间的密着力增高。
C)化学的特性
对于外界环境的耐受性增加（耐酸、耐碱），稳定。
离子源的详细作用
I基板洗净（前处理）