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文档摘要

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物理气相沉积技术

之真空蒸发镀膜;;1;1.物理气相沉积（PVD）：在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其电离成离子，直接沉积到基片（工件）表面形成固态镀膜的方法

2.基本过程：

（1）气相物质的产生：镀料加热蒸发、高能离子轰击靶材（镀料）；

（2）气相物质的输送：一定真空度条件下，镀料直接到达基片；

（3）气相物质的沉积：是一种凝聚过程。;3.物理气相沉积的特点：

（1）镀膜材料来源广泛；

（2）沉积温度低；

（3）镀层附着力强；

（4）工艺过程易于操控；

（5）真空条件下沉积。

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