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文件名称：《GB_T 41153-2021碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》专题研究报告.pptx
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总页数：20 页
更新时间：2025-12-02
总字数：约小于1千字
文档摘要
;目录;;第三代半导体浪潮下，碳化硅单晶的杂质控制为何成“生死线”？;（二）标准出台前的检测乱象：为何传统方法难以满足碳化硅质控需求？;（三）核心价值凸显：GB/T41153-2021如何重塑碳化硅产业的质控逻辑？;;需求驱动：碳化硅产业爆发期，标准为何成为“急行军”？;（二）研制主体协同：产学研用如何打通标准落地“最后一公里”？;（三）关键研制节点：从草案到发布，标准如何实现“科学严谨”？;;SIMS技术本质：为何能成