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文件名称:单层和少层二硫化钼的制备工艺探索与Co掺杂ZnO薄膜室温铁磁性机制研究.docx
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更新时间:2025-12-03
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文档摘要

单层和少层二硫化钼的制备工艺探索与Co掺杂ZnO薄膜室温铁磁性机制研究

一、引言

1.1研究背景及意义

在材料科学的持续探索与创新进程中,新型材料的研发与性能优化始终是核心主题。二硫化钼(MoS?)作为二维材料领域的杰出代表,以其独特的层状结构和卓越的物理化学性质,在众多领域展现出巨大的应用潜力,成为研究热点。其结构由硫原子和钼原子以二层交替排列构成,层内原子通过强共价键紧密结合,赋予材料稳定性;层间则通过较弱的范德华力相互作用,这种特殊结构使其具备优异的润滑性能和独特的电学性能。例如,在润滑领域,二硫化钼的层状结构使其能够在摩擦表面形成润滑膜,有效降低摩擦系数,提高机械部件的使用寿命,广泛