基于激光直写技术的硅基高灵敏度直角盘腔的制备与性能研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今光电子领域，随着信息技术的飞速发展，对高性能光电子器件的需求日益迫切。激光直写技术作为一种先进的微纳加工手段，凭借其高分辨率、灵活性以及能够实现三维复杂结构加工的优势，在光电子器件制备中发挥着举足轻重的作用。它能够精确地在材料表面或内部构建微纳结构，为实现新型光电子器件的功能提供了可能。而硅基材料由于其在半导体产业中的成熟工艺、良好的光学和电学性能以及与现有集成电路技术的兼容性，成为了光电子器件研究的热门材料之一。

硅基高灵敏度直角盘腔作为一种新型的光电子器件结构，在光传感、光通信以及量子光学等领域