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文件名称:韦森堡效应赋能电纺直写:射流约束与定位沉积的实验探索.docx
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更新时间:2025-12-04
总字数:约2.05万字
文档摘要

韦森堡效应赋能电纺直写:射流约束与定位沉积的实验探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学与微纳制造领域,电纺直写技术作为一种能够在微纳尺度上精确操控材料沉积的方法,近年来受到了广泛的关注。该技术通过在聚合物溶液或熔体上施加高压电场,使其克服表面张力和粘滞阻力,从泰勒锥尖端喷射出射流,利用射流稳定直线阶段实现有序微纳结构的喷印。这种技术具有设备简单、成本低、可加工材料种类多等优点,且能够实现三维结构的直接制造,为微纳制造领域提供了一种全新的解决方案。从生物医学领域来看,组织工程和药物输送系统的发展对材料的结构和性能提出了特殊要求。高度有序的微纳纤维结构能够模拟细胞外基质的环境,促进细胞