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文件名称:沟槽式势垒肖特基二极管电学性能的多维解析与优化策略.docx
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总页数:19 页
更新时间:2025-12-06
总字数:约2.32万字
文档摘要
沟槽式势垒肖特基二极管电学性能的多维解析与优化策略
一、引言
1.1研究背景与意义
在现代电子技术飞速发展的时代,电子产品朝着小型化、高性能、低功耗的方向不断迈进,这对电子元器件的性能提出了极为严苛的要求。沟槽式势垒肖特基二极管(TrenchBarrierSchottkyDiode,简称TBSD)作为一种关键的半导体器件,凭借其独特的结构和优异的电学性能,在众多电子产品中扮演着举足轻重的角色,成为了推动电子行业发展的核心力量之一。
从电子产品的广泛应用领域来看,无论是在日常使用的移动设备,如智能手机、平板电脑中,还是在引领科技前沿的5G通信基站、数据中心,以及代表未来出行趋势的新