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文件名称:2025年高端半导体硅材料抛光技术进展与表面质量发展报告.docx
文件大小:32.56 KB
总页数:17 页
更新时间:2025-12-08
总字数:约1.16万字
文档摘要
2025年高端半导体硅材料抛光技术进展与表面质量发展报告
一、2025年高端半导体硅材料抛光技术进展
1.抛光技术的演变
1.1传统抛光技术
1.1.1机械抛光
1.1.2化学抛光
1.2新型抛光技术
1.2.1磁控抛光技术
1.2.2等离子体抛光技术
2.抛光设备的发展
2.1传统抛光设备
2.2新型抛光设备
2.2.1磁控抛光设备
2.2.2等离子体抛光设备
3.抛光材料的研究
3.1传统抛光材料
3.2新型抛光材料
3.2.1纳米抛光材料
3.2.2生物抛光材料
4.抛光工艺的优化
4.1传统抛光工艺
4.2新型抛光工艺
4.2.1磁控抛光工艺