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文件名称:高功率激光装置中光学元件“缺陷”分布与光束近场质量的深度剖析及关联研究.docx
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更新时间:2025-12-08
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文档摘要

高功率激光装置中光学元件“缺陷”分布与光束近场质量的深度剖析及关联研究

一、引言

1.1研究背景与意义

高功率激光装置作为一种强大的工具,在科研和工业领域展现出了巨大的应用潜力。在科研领域,惯性约束聚变(ICF)物理实验高度依赖高功率固体激光驱动器。ICF旨在通过高功率激光束照射靶丸,引发核聚变反应,为人类探索新能源提供了一条重要途径。美国国家点火装置(NIF)由192束纳秒激光组成,单脉冲能量达1.8MJ,其在ICF研究中发挥着关键作用。中国的神光系列装置同样在ICF研究中不断取得进展,推动着相关领域的发展。在实验室天体物理研究中,高功率激光装置可以模拟天体物理中的极端