含憎水性成分的Ar等离子体介质阻挡放电特性：机理、影响因素与应用前景

一、引言

1.1研究背景与意义

等离子体作为物质的第四态，由大量带电粒子和中性粒子组成，呈现出独特的物理化学性质。在众多产生等离子体的方法中，介质阻挡放电（DielectricBarrierDischarge，DBD）由于能够在常温常压下产生非平衡等离子体，具有设备简单、操作方便、能耗较低等优点，在材料表面改性、薄膜制备、污染物治理、生物医学等多个领域展现出广阔的应用前景，成为等离子体领域的研究热点之一。

在材料表面改性领域，通过DBD等离子体处理可以改变材料表面的物理和化学性质，如引入特定官能团、增加表面粗糙度、