基本信息
文件名称:2025年半导体设备真空系统技术发展动态.docx
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总页数:21 页
更新时间:2025-12-08
总字数:约2.48万字
文档摘要
2025年半导体设备真空系统技术发展动态参考模板
一、半导体设备真空系统技术发展背景与意义
1.1行业背景
半导体产业作为现代信息社会的核心支柱,其发展水平直接决定了一个国家在全球科技竞争中的地位。近年来,全球半导体市场规模呈现持续扩张态势,根据SEMI发布的《2024年全球半导体设备市场预测》显示,2024年全球半导体设备市场规模将同比增长13%,达到1050亿美元的历史新高,其中真空系统作为半导体制造过程中不可或缺的关键部件,在光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入等核心工艺环节中扮演着“环境基石”的角色。随着5G通信、人工智能、物联网、元宇宙等新兴技术的快速渗透,芯片制程不断向3nm及以下