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文件名称:水基流延成型制备高磁导率低磁损耗NFC铁氧体片的工艺与磁学性能研究.docx
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总页数:18 页
更新时间:2025-12-10
总字数:约2.15万字
文档摘要
水基流延成型制备高磁导率低磁损耗NFC铁氧体片的工艺与磁学性能研究
一、引言
1.1研究背景与意义
近年来,随着科技的飞速发展,近距离无线通讯技术(NFC,NearFieldCommunication)以其便捷、高效的特点,在移动支付、门禁系统、智能设备互联等众多领域得到了广泛应用。NFC技术通过在13.56MHz的高频下实现电子设备之间的非接触式点对点识别和数据传输,极大地改变了人们的生活和工作方式。作为NFC技术的关键组件,NFC铁氧体片在保障信号传输质量、提高抗干扰能力等方面发挥着不可或缺的作用。
随着NFC技术应用场景的不断拓展,对NFC铁氧体片的性能提出