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文档摘要

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2025年半导体设备真空系统技术瓶颈与解决方案模板

一、2025年半导体设备真空系统技术瓶颈与解决方案

1.真空度稳定性问题

1.1针对真空度稳定性问题

1.1.1优化设备设计

1.1.2加强环境控制

1.2泵性能问题

1.2.1针对泵性能问题

1.2.2加强泵的维护保养

1.3真空度均匀性问题

1.3.1针对真空度均匀性问题

1.3.2优化管道设计

1.4真空系统污染问题

1.4.1针对真空系统污染问题

1.4.2优化设备设计

二、真空系统关键部件的技术进展与挑战

2.1真空泵的技术进展与挑战

2.1.1干式泵技术的进步

2.1.2分子泵的技术挑战

2.2真