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材料科学中的干法生长技术测试卷

一、单选题（每题2分，共20题）

1.干法生长技术中，以下哪种方法不属于物理气相沉积（PVD）技术？

A.真空蒸发沉积

B.溅射沉积

C.化学气相沉积（CVD）

D.等离子体增强溅射沉积

2.在干法生长技术中，化学气相沉积（CVD）的核心原理是？

A.物理气态物质的直接沉积

B.化学反应生成固态物质

C.机械研磨法生长晶体

D.外延生长技术

3.干法生长技术中，以下哪种材料通常用于制备高纯度单晶硅？

A.石墨烯

B.碳纳米管

C.多晶硅

D.钛酸钡陶瓷

4.在干法生长技术中，溅射沉积