基本信息
文件名称：《高精度暗场扫描式晶圆缺陷检测设备-编制说明》.pdf
文件大小：243.01 KB
总页数：9 页
更新时间：2025-12-16
总字数：约6.2千字
文档摘要
《高精度暗场扫描式晶圆缺陷检测设备》
（征求意见稿）
编制说明
一、工作简况
（一）任务来源
本文件由北京中研博采技术服务有限公司提出，经中国技术
市场协会标准化工作委员会批准，正式列入2025年团体标准制
修订计划，标准名称为《高精度暗场扫描式晶圆缺陷检测设备》。
（二）项目背景
随着半导体产业朝着高密度集成、微纳化方向迅猛发展，晶
圆作为集成电路制造的核心基础材料，其表面微米级及亚微