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2026年中国光刻胶行业市场监测与投资战略研究报告

第一章光刻胶行业概述

1.1行业定义及分类

光刻胶作为半导体制造中不可或缺的关键材料，其作用在于将半导体晶圆表面暴露的硅原子与不需要的光刻图案隔离。按照化学结构，光刻胶主要分为正性光刻胶和负性光刻胶两大类。正性光刻胶在曝光后，未曝光区域保持原有的粘性，而曝光区域则会溶解，形成图案；负性光刻胶则相反，曝光区域保持粘性，未曝光区域溶解。根据应用领域，光刻胶可分为半导体光刻胶、平板显示光刻胶、微电子光刻胶等。例如，在半导体制造领域，随着芯片制程的不断缩小，光刻胶对分辨率和性能的要求也在不断提升，目前最先进的半导体光