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离子注入仿真与其他工艺仿真的结合

在半导体工艺仿真中，离子注入仿真通常与其他工艺仿真步骤相结合，以更全面地模拟整个工艺流程。这一节将详细介绍如何将离子注入仿真与其他工艺仿真步骤（如氧化、扩散、刻蚀等）结合起来，以实现更精确的工艺模拟。

1.离子注入仿真与氧化工艺仿真的结合

1.1理论基础

在离子注入过程中，注入的离子会在半导体表面形成损伤层，这会影响后续的氧化工艺。氧化工艺会去除表面的损伤层，同时也会改变注入离子的分布。因此，将离子注入仿真与氧化工艺仿真相结合是必要的。

1.2仿真步骤

离子注入仿真：使用离子注入仿真软件（如SynopsysSen