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文件名称:半导体工艺仿真:离子注入工艺仿真_(10).仿真结果分析与验证.docx
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总页数:13 页
更新时间:2025-12-20
总字数:约1.16万字
文档摘要
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仿真结果分析与验证
1.引言
在半导体工艺仿真中,尤其是离子注入工艺仿真,仿真结果的分析与验证是至关重要的步骤。这一节将详细介绍如何分析和验证离子注入仿真结果,包括常用的分析方法、验证标准以及具体的验证步骤。通过本节的学习,您将能够掌握如何评估仿真结果的准确性和可靠性,并了解如何通过实验数据对仿真结果进行校验。
2.仿真结果的分析方法
2.1剂量分布分析
剂量分布是离子注入仿真中最重要的输出之一。剂量分布图可以直观地显示注入离子在半导体材料中的分布情况,包括峰值剂量、注入深度、剂量梯度等关键参数。这些参数对于后续的工艺步骤(如退火、掺杂等)具有重要