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文件名称：半导体材料仿真：石墨烯材料仿真_（12）.石墨烯的制备与表征技术仿真.docx
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更新时间：2025-12-20
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文档摘要
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石墨烯的制备与表征技术仿真
石墨烯的制备方法仿真
化学气相沉积（CVD）法制备石墨烯
化学气相沉积（CVD）法是一种高效且可控的石墨烯制备方法。在CVD过程中，气体前驱体在高温下分解并在基底上沉积形成石墨烯薄膜。为了更好地理解这一过程，本节将介绍如何使用计算机仿真软件模拟CVD法制备石墨烯的过程。
CVD法制备石墨烯的基本原理
CVD法制备石墨烯的基本原理可以概括为以下几个步骤：1.基底准备：选择合适的基底材料，如铜箔或镍箔，进行表面处理以提高沉积效率。2.气体引入：将气体前驱体（如甲烷、乙炔等）引入反应室。3.高温分解：在高温条件下，气体前