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文件名称:半导体器件可靠性分析:电迁移分析_(5).电迁移的建模与仿真.docx
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更新时间:2025-12-20
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文档摘要
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电迁移的建模与仿真
在半导体器件中,电迁移(Electromigration,EM)是指在高电流密度下,电子流通过金属互连层时对金属原子产生的推动力,导致金属原子沿电流方向迁移的现象。这种迁移会逐渐改变金属导线的微观结构,形成空洞、裂纹或hillocks,最终可能导致器件的失效。因此,电迁移分析是半导体器件可靠性分析中的一个重要环节。
1.电迁移的基本概念
1.1电迁移的物理机制
电迁移的物理机制主要包括以下几个方面:
电子风力(ElectronWindForce,EWF):电子在通过金属导线时,其动量传递给金属原子,形成一种推动力,使金属