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文件名称:半导体器件可靠性分析:电迁移分析_(4).电迁移的测试方法.docx
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更新时间:2025-12-20
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电迁移的测试方法

1.引言

电迁移(Electromigration,EM)是半导体器件中金属互连层在高电流密度下由于电子风力(electronwindforce)导致金属原子迁移的现象。电迁移会导致金属互连层的断裂或短路,从而影响器件的可靠性和寿命。为了评估和预测半导体器件的电迁移效应,需要采用一系列的测试方法。本节将详细介绍电迁移的主要测试方法,包括双线测试、固化测试、热应力测试和加速寿命测试等。

2.双线测试

2.1原理

双线测试(DualLineTest)是一种常用的方法,用于评估金属互连层的电迁移效应。该方法通过在两个平行的金属