深耕先进沉积工艺，延展混合键合版图

——拓荆科技

?公司和行业情况：1）公司是国内领先的前道薄膜沉积设备厂商，核心产品覆盖PECVD、ALD、

FlowableCVD、HDPCVD等多类工艺，已在先进逻辑与存储产线实现规模化交付；同时，

公司前瞻布局混合键合及配套量检测设备，切入异构集成与三维集成核心环节，业务由单一

沉积设备向“沉积+键合”双引擎平台化演进；2）行业：薄膜沉积设备处于半导体前道设

备体系的核心位置，市场规模与需求确定性较强。根据MaximizeMarketResearch数据，

2025年全球薄膜沉积设备