基本信息
文件名称:中微公司首次覆盖报告:刻技精深,沉积致远,先进工艺演进驱动产品放量.docx
文件大小:1.96 MB
总页数:16 页
更新时间:2025-12-27
总字数:约1.22万字
文档摘要
目录
TOC\o1-2\h\z\u工艺之微,以“刻”为剑 4
中国领先的前道半导体装备供应商,以刻蚀设备为核心 4
以刻蚀与MOCVD为核心产品,持续扩展其他品类 5
财务表现:成长性显著,研发投入持续高增 7
逻辑与存储景气抬升,中国半导体设备市场增长强劲 9
全球半导体市场持续回暖,2027年有望突破万亿美元规模 9
中国大陆半导体设备市场增长保持强劲 10
中国半导体设备市场增量重心在刻蚀和沉积环节 11
多重图案技术需要更多次刻蚀 11
三维架构为先进制程主路径,刻蚀与沉积需求强度抬升 12
刻蚀沉积双线向上,公司有望凭技